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ASML, 벨기에서 '하이-NA EUV' 테스트 연구소 개설'

• 2024.08.11 16:41
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CNBC에 따르면 ASML이 네덜란드 벨트호벤에 새로운 시설을 개소했습니다. 이 연구소는 고나노 극자외선 노광 장비를 테스트할 수 있는 곳으로 알려졌습니다. ASML은 수년간의 준비 끝에 이 시설을 마련했는데, 주요 칩 제조업체와 장비 및 재료 공급 업체들에게 3억5000만유로 규모의 장비를 조기에 사용할 수 있는 기회를 제공할 예정입니다. 새로운 하이-NA 도구는 최대 60% 더 개선된 해상도를 제공하여 더 작고 빠른 칩의 차세대 생산을 이끌 것으로 예상됩니다. ASML은 2025~2026년에 해당 도구로 상업 생산을 시작할 계획이며, 현재 TSMC, 삼성, 인텔, SK하이닉스 등이 ASML의 세대 극자외선 또는 EUV 기계를 사용해 제조할 수 있습니다. 그러나 TSMC는 2025년 생산에 돌입할 A16 칩에 NA 도구를 사용할 필요가 없다고 밝혔습니다.

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